設置機関 | 東京大学 |
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研究科・学部 | |
設備分類 | 顕微鏡 > 試料加工装置 |
製造元 | フィッショネ |
型番 | Model 1040 |
設備名称 | TEM試料調製システム_ナノミル |
装置スペック | □主な特長 透過型電子顕微鏡/走査透過型電子顕微鏡用試料の作製装置 FIB加工やイオン研磨によって生じた試料表面のダメージ層の 除去を行い試料の最終仕上げ研磨を行う装置 □主な仕様 ・イオンエネルギー:50~2000eV ・点分解能:2μm(900eV,Cu) ・倍率:100~2000倍 ・ミリングレート:1nm/min □主な用途 ・電子顕微鏡用試料作成 |
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