デバイス >
電子線描画装置 (Electron Beam Lithography)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 筑波大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | ELIONIX |
| 型番 | ELS-7500EX |
| 設備名称 | 電子線描画装置 (Electron Beam Lithography) |
| 装置スペック | 電子銃エミッター：ZrO/W熱電界放射型 加速電圧：5～50 kＶ 最小線幅：10 nm 試料サイズ：最大4インチ ステージ移動範囲： X:100 mm以上 Y:110 mm以上 重ねあわせ精度：40 nm フィールド継ぎ精度：40 nm |
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