デバイス >
パターン投影リソグラフィシステム (Maskless Lithography System)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 筑波大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | Heidelberg instruments |
| 型番 | μPG501 |
| 設備名称 | パターン投影リソグラフィシステム (Maskless Lithography System) |
| 装置スペック | 描画エリア；125×125mm2 最小描画サイズ；1.0μm 最小アドレッシンググリッド；50nm@1μm 描画スピード；50mm2/min@1μm,100mm2/min@2μm |
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