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微細パターン形成装置群（スピンコーター、マスクアライナー）(Photolithography system (Mask aligner, Spincoater))
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 筑波大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | Neutronix-Quintel/ミカサ ( Neutronix-Quintel/Mikasa) |
| 型番 | Q 2001CT/MS-A100 |
| 設備名称 | 微細パターン形成装置群（スピンコーター、マスクアライナー）(Photolithography system (Mask aligner, Spincoater)) |
| 装置スペック | Neutronix-Quintel社製Q 2001CT（2.5インチマスク用コンタクトアライナー） マスク-ウエハ間隔；0-180μm 基板；1cm角～４インチφ マスク；2.5インチ角、5インチ角 光源；200W水銀ランプ(350~450nm) 解像度；0.6～1.0μm マニュアルアライメント；1.0μm 照度分布；?5%@3.5インチφ ミカサ社製MS-A100（スピンコーター） 基板: 5mm角から4インチφまで |
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