イオンミリング (Ion Milling System)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 筑波大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | 顕微鏡 > 試料加工装置 |
| 製造元 | 日立ハイテク (Hitachi High-Tech) |
| 型番 | IM4000PLUS |
| 設備名称 | イオンミリング (Ion Milling System) |
| 装置スペック | 断面ミリングと平面ミリングに対応したハイブリッドタイプのイオンミリング装置 ＜断面ミリングホルダ＞ 使用ガス：Ar（アルゴン）ガス 加速電圧：0～6kV 最大ミリングレート（材料Si）：500μm/hr以上 最大試料サイズ：20（W）×12（D）×7（H）mm 試料移動範囲：X ±7mm 、 Y 0～＋3mm ＜平面ミリングホルダ＞ 使用ガス：Ar（アルゴン）ガス 加速電圧：0～6kV 最大試料サイズ：Φ50 × 25（H） mm 試料移動範囲：X 0～＋5mm |
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