デバイス >
超高温炉 (Rapid Thermal Annealing (RTA) System)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 筑波大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | サーモ理工 (THERMO RIKO CO., LTD) |
| 型番 | SR1800TS |
| 設備名称 | 超高温炉 (Rapid Thermal Annealing (RTA) System) |
| 装置スペック | ・ 真空中で試料加熱を行うことができ、最大昇温速度は300℃/sec、最高到達温度は1800℃. ・ 昇温速度、熱処理時間等の詳細な熱処理条件をプログラムすることが可能. ・ 試料ホルダーはグラファイト製に加え、石英製も備えられており、酸化性雰囲気での熱処理も可能. 加熱方式：赤外線導入加熱方式、最高到達温度：1800℃、最大昇温速度：300℃/sec、最大到達真空度：5 × 10-5 Pa、加熱面積：φ15mm. |
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