デバイス >
マスクレス露光装置 (Maskless Lithography System)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 産業技術総合研究所 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | ナノシステムソリューション (Nano System-Solutions) |
| 型番 | DL1000 |
| 設備名称 | マスクレス露光装置 (Maskless Lithography System) |
| 装置スペック | ・型式:DL1000 ・試料サイズ:4インチφ、100mm□ ・光源:波長405nm(LED) ・露光最小画素:1μm□ ・最大露光領域:100mm□ ・重ね合わせ精度:±1μm |
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