デバイス >
電子ビーム真空蒸着装置 (Electeron Beam Vacuum Evaporator)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 産業技術総合研究所 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | エイコーエンジニアリング (EIKO ENGINEERING) |
| 型番 | - |
| 設備名称 | 電子ビーム真空蒸着装置 (Electeron Beam Vacuum Evaporator) |
| 装置スペック | ・試料サイズ:100 mm×100 mm×20 mm ・蒸着方式:電子ビーム加熱蒸発、180°配向型 ・蒸発源:8連装（6 kW電子銃） ・クルーシブル容量:10 ml ・基板ホルダ:傾斜ホルダ、冷却機構付(マイナス10℃) ・蒸発源―基板間:300 mm ・試料導入:ロードロック自動搬送 ・真空排気システム:到達圧力3×10-6 Pa以下、オイルフリー、自動排気 ・成膜:水晶振動子膜厚モニタによる自動制御 ・膜厚分布:10 %以内@Φ75mm ・ソース材料: Al, Al2O3, Ag, Au, Cr, Cu, Mo, Pt, Ru, SiO2, Ta, Ti, TiN, TiO2, W |
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