デバイス >
抵抗加熱型真空蒸着装置 (Resistance Heating Vacuum Evaporator)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 産業技術総合研究所 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | ビームトロン (Biemtron) |
| 型番 | KIS_3 |
| 設備名称 | 抵抗加熱型真空蒸着装置 (Resistance Heating Vacuum Evaporator) |
| 装置スペック | ・型式:KIS_3 ・試料サイズ:3インチφ以下 ・蒸着方式:抵抗加熱蒸発 ・蒸発源:3ポート ・加熱抵抗体:平板ボート、コイル、バスケット ・傾斜基板ホルダ:±15° ・蒸発源―基板間:250 mm ・試料導入:手動 ・真空排気:手動、到達圧力5×10-5 Pa以下 ・成膜制御:手動（ 基板シャッター開閉及びヒーター電力調整） ・膜厚モニター:水晶振動子膜厚モニタ付 ・ソース材料: Al, Ag, Au, Fe, Ni, Cr, Cu, Ti |
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