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プラズマCVD薄膜堆積装置 (Plasma-assisted CVD（TEOS/SiO2）)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 産業技術総合研究所 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | サムコ (Samco) |
| 型番 | PD-20SS |
| 設備名称 | プラズマCVD薄膜堆積装置 (Plasma-assisted CVD（TEOS/SiO2）) |
| 装置スペック | ・型式:PD-20SS ・試料サイズ8インチ ・有効成膜範囲:220mmφ ・排気系:ロータリーポンプ＋メカニカルブースターポンプ ・圧力制御:オートプレッシャーコントローラー（コンダクタンス可変型） ・高周波電源:300W（13.56MHz） ・電極間隔:25mm（上部電極:Al製、下部電極:SUS製） ・ガス噴出口:上部電極一体式シャワー状マニホールド ・ステージ加熱機構:抵抗加熱方式（400℃） ・導入ガス:C2F6, O2, TEOS |
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