集束イオンビーム加工観察装置(FIB) (Focused Ion Beam System（FIB）)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 産業技術総合研究所 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | 顕微鏡 > 試料加工装置 |
| 製造元 | 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech) |
| 型番 | FB-2100 |
| 設備名称 | 集束イオンビーム加工観察装置(FIB) (Focused Ion Beam System（FIB）) |
| 装置スペック | ・型式:FB-2100 ・試料サイズ: 18mmφ以下, 高さ10mm以下 ・イオン源:ガリウム液体金属イオン源 ・加速電圧:2kV, 5kV, 10kV～40 kV （低加速電圧対応） ・像分解能:6 nm （SIM） ・ビーム径:3?m, 1.3?m, 600 nm, 320 nm, 120 nm, 60 nm, 10 nm ・イオンビーム電流:0.1nA～68nA （大電流対応） ・デポジションガス:タングステンカルボニル ・マニュピレータシステム:シングルプローブ ・試料ステージ制御:5軸チルトステージ ・ステージ傾斜角度:最大45° |
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