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ECRスパッタ成膜・ミリング装置 (ECR sputter deposition and milling system)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 産業技術総合研究所 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | エリオニクス (ELIONIX) |
| 型番 | EIS-200ERP |
| 設備名称 | ECRスパッタ成膜・ミリング装置 (ECR sputter deposition and milling system) |
| 装置スペック | ・型式:EIS-200ERP ・試料サイズ:75 mmφ ・イオンソース:ECR方式 ・ガス種:Ar (最大流量5sccm) ・圧力:0.01 Pa ・加速電圧:30～3000 V ・マイクロ波:最大100 W ・材料ターゲットサイズ:100 mmφ |
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