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サムコ原子層堆積装置_2[AD-100LP] (Atomic Layer Deposition_2〔AD-100LP〕)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 産業技術総合研究所 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | サムコ (Samco) |
| 型番 | AD-100LP |
| 設備名称 | サムコ原子層堆積装置_2[AD-100LP] (Atomic Layer Deposition_2〔AD-100LP〕) |
| 装置スペック | ・型式: AD100-LP (サムコ株式会社) ・試料サイズ:4インチ（2インチは3枚まで搭載可能） ・ステージ温度：50 ～ 500℃ ・放電方式: 誘導結合式ICPプラズマ（ダウンフロー型、リモート型） ・ICP高周波電源: 300W（13.56MHz） ・試料導入方式: ロードロック式 ・キャリアガス:N2 ・反応ガス:H2O, O2、ピュアオゾン, N2、NH3、H2、Ar ・材料ガス:TMA,BDEAS |
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