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高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 東京大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | アドバンテスト (ADVANTEST) |
| 型番 | F5112＋VD01 |
| 設備名称 | 高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine) |
| 装置スペック | ・長方形・矩形の大きさを任意に変更してショットする(可変整形)ことのできる高速電子線描画装置。 ・カケラ基板から8インチ丸基板までの任意形状に対応 ・加速電圧50kV |
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