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超高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 東京大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | アドバンテスト (ADVANTEST) |
| 型番 | F7000S-VD02 |
| 設備名称 | 超高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine) |
| 装置スペック | カケラから8インチ丸基板までの任意形状に対応。R２年度補正予算改造により、更に高速性がアップしました。 （厚みに制限あり。ご相談ください） 可変整形ビーム（VSBモード）による、高速描画が可能 内蔵ステンシル（CPモード）による、階段近似の無い滑らかな曲線等の高速描画が可能。 データはGDS-IIストリームフォーマットから変換 |
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