デバイス >
光リソグラフィ装置MA-6 (MA6 Suss 6” Mask Aligner)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 東京大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | ズースマイクロテック (SUSS MicroTec) |
| 型番 | MA6 |
| 設備名称 | 光リソグラフィ装置MA-6 (MA6 Suss 6” Mask Aligner) |
| 装置スペック | 精密な位置合わせ（表裏1ミクロン精度）が可能で、欠片から6インチまでの露光が可能なマスクアライナー。普段は混合で利用していますが必要であればi線フィルターをかけることができます。 |
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