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電子線描画用近接効果補正ソフト (Procxymity effect correction for electron beam lithography)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 東京大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | GenISys (GenISys GmbH) |
| 型番 | Beamer |
| 設備名称 | 電子線描画用近接効果補正ソフト (Procxymity effect correction for electron beam lithography) |
| 装置スペック | 電子線描画時に生じる近接効果を補正して設計通りのレズストパターンを電子線で描画するためのパターン補正システム |
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