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設置機関	東京大学
研究科・学部
設備分類	デバイス >
製造元	ハイデルベルグ
型番	DWL66+ (2024，375nm）
設備名称	レーザー直接描画装置DWL66+2024
装置スペック	波長375nm(半導体レーサー 70mW)　小片アライメントオプション、両面アライメント機能付き。最小リソグラフィサイズ　0.3μm、重ねリソグラフィ精度±３σで500 nm以下(解像度による)、 128階調の「グレイスケールリソグラフィー」により,フォトレジストの立体形状段差をある程度自由に作れる。また、GenISys社の変換ソフトウェア「BEAMER」を使うと、形状を得るために、近接効果の影響を計算して露光補正が可能。

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