デバイス >
汎用ICPエッチング装置 (General purpose ICP etching machine)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 東京大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | アルバック (ULVAC) |
| 型番 | CE-300I |
| 設備名称 | 汎用ICPエッチング装置 (General purpose ICP etching machine) |
| 装置スペック | 誘導性結合プラズマ（ICP）エッチング装置で、こちらは汎用装置。 4”丸型ウエーハの入る装置。 利用可能ガスは、アルゴン、SF6、CF4、CHF3、O2。 主に酸化膜のエッチングや、イオンミリングによる金属のエッチングに利用。 |
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