デバイス >
汎用NLDエッチング装置 (Neutral Loop Discharge (NLD) plasm dry etching system)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 東京大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | アルバック (ULVAC) |
| 型番 | NLD-5700Si |
| 設備名称 | 汎用NLDエッチング装置 (Neutral Loop Discharge (NLD) plasm dry etching system) |
| 装置スペック | ガラスの深掘りが可能なニュートラルループディスチャージ（NLD）エッチング装置。当面は技術補助のみ。 |
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