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川崎ブランチスパッタリング装置 (Multple Cathode Magnetron Sputtering System, CFS-4EP-LL)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 東京大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | 芝浦メカトロニクス (SHIBAURA MECHATRONICS) |
| 型番 | CFS-4EP-LL |
| 設備名称 | 川崎ブランチスパッタリング装置 (Multple Cathode Magnetron Sputtering System, CFS-4EP-LL) |
| 装置スペック | ターゲット材をアルゴンプラズマによってスパッタリングし、基板に製膜するスパッタリング装置です。 ターゲット材は日々変動するので都度相談ください。φ200以下のシリコン、ガラス専用。 |
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