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川崎ブランチECRスパッタリング装置 (Electron-Cyclotron Resonance (ECR) Ion Beam Sputter Deposition System, EIS-230W)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 東京大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | エリオニクス (ELIONIX) |
| 型番 | EIS-230W |
| 設備名称 | 川崎ブランチECRスパッタリング装置 (Electron-Cyclotron Resonance (ECR) Ion Beam Sputter Deposition System, EIS-230W) |
| 装置スペック | ターゲット材をアルゴンプラズマによってスパッタリングし、基板に製膜するスパッタリング装置です。 109と比較して高周波の高密度プラズマを用いているところが違いです。 ターゲット材は日々変動するので都度相談ください。φ100以下の基板用 |
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