設置機関 | 東京大学 |
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研究科・学部 | |
設備分類 | 元素分析 > 蛍光X線分析 |
製造元 | リガク |
型番 | TXRF 3760 |
設備名称 | 全反射蛍光X線分析装置TXRF-3760 |
装置スペック | ウェーハ表面上の汚染を非破壊・非接触で高感度に分析。 液体窒素フリー検出器を備えた3ビームTXRFシステム。 ナトリウムからウランまでの元素検出が可能。 解析に時間と経験を要するため、当面技術代行(代行料が上乗せになる)にての公開。 |
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