デバイス >
電子ビーム蒸着装置 (Electron Beam Vaper Deposition system )
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 早稲田大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | キヤノンアネルバ株式会社 (CANON ANELVA CORPORATION) |
| 型番 | EVC-1501 |
| 設備名称 | 電子ビーム蒸着装置 (Electron Beam Vaper Deposition system ) |
| 装置スペック | 試料サイズ ４インチ以下 Au, Cr, Ti専用 4インチウエハ18枚同時成膜可能（プラネタリーホルダー） |
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