デバイス >
原子層堆積装置 (Atomic Layer Deposition Systems)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 早稲田大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | PICOSUN JAPAN株式会社 (Picosun Japan Co. Ltd.) |
| 型番 | SUNALE R-150 |
| 設備名称 | 原子層堆積装置 (Atomic Layer Deposition Systems) |
| 装置スペック | Al2O3膜を原子一層レベルで成膜可能 H2O及びO3使用可 基板サイズ小片～4インチ 4”, 6”ウエハ, 及び20×20mm試料対応 基板材料は原則としてダイヤモンドまたはSi |
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