デバイス >
プラズマアッシャー (Plasma Asher)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 早稲田大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | ヤマト科学株式会社 (Yamato Scientific Co., Ltd.) |
| 型番 | PR500 |
| 設備名称 | プラズマアッシャー (Plasma Asher) |
| 装置スペック | 使用ガス：O2ガス 試料サイズ：φ4インチ以下 用途：レジストの灰化除去 ドライエッチング後のO2アッシング） 有機系汚染物質のクリーニング Si表面の親水化処理等 |
この設備情報の修正依頼
掲載内容に不備がある場合、情報が古い場合などはこちらから修正の報告をお願いします。