デバイス >
マスクレス露光装置 (Maskless exposure equipment)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 豊田工業大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | 大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.) |
| 型番 | MX-1204 |
| 設備名称 | マスクレス露光装置 (Maskless exposure equipment) |
| 装置スペック | φ4インチにポジ型フォトレジスト（膜厚1μm以上）に、2μm幅のラインアンドスペースを全面（外周3mm除く）に描いたときに、描画時間が30分程度。 露光パターン幅のバラツキが100 nm（1σ）以下。 |
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