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シリコン専用の各種熱処理（酸化、拡散）装置一式 (Thermal treatment furnaces (oxidation, diffusion))
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 豊田工業大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | 縦型：ディー・エス・アイ テクノロジー 横型：光洋サーモシステム (縦型：DSITechnology Co.LTD 横型：Koyo Thermo Systems Co., Ltd.) |
| 型番 | 縦型：MD-100P 横型：4001PSI |
| 設備名称 | シリコン専用の各種熱処理（酸化、拡散）装置一式 (Thermal treatment furnaces (oxidation, diffusion)) |
| 装置スペック | 横型および縦型酸化・拡散炉一式 ・シリコンウェハの酸化および不純物拡散（リンおよびボロン） ・φ3インチまでのシリコン基板 |
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