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イオンミリング装置 (Ion milling)
学内学外とも共用 マテリアル先端リサーチインフラ

設置機関 豊田工業大学
研究科・学部
設備分類 デバイス >
製造元 日立ハイテクフィールディング (Hitachi High-Tech Fielding Corporation)
型番 IM-4-1
設備名称 イオンミリング装置 (Ion milling)
装置スペック 加工材料:一般的な金属 最大加工領域:3基板 加工速度の目安: 加速電圧600V 減速電圧200V 加速電流120mA 傾斜角-30° でアルミのエッチング速度2.4μm/h
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