高精細集束イオンビーム装置?(High definition focused ion beam system)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 大阪大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | 顕微鏡 > 試料加工装置 |
| 製造元 | カールツァイス |
| 型番 | ORION NanoFab |
| 設備名称 | 高精細集束イオンビーム装置?(High definition focused ion beam system) |
| 装置スペック | 【特徴】 イオン源にHeガスを採用し、最小ビーム径0.5nmφ の分解能を有する。 FIB：10nm以下の微細加工が可能。 ヘリウムイオン顕微鏡：中和銃装備のため導電性処理無しで絶縁体の観察が可能。生体試料の観察にも適する。 【仕様】 イオン源：He / Ne (希ガス) 最小ビーム径：0.5 nm (He)，1.9 nm (Ne) 加速電圧：10～40 kV ET検出器：2次電子 電子中和銃（Flood gun）装備 GIS：Pt、SiO2、XeF2 試料サイズ： 45mmφ |
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