デバイス >
自動搬送電子ビーム描画装置?(Automatic Transport Electron Beam Lithography System)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 大阪大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | エリオニクス |
| 型番 | ELS-BODEN-OU4801 |
| 設備名称 | 自動搬送電子ビーム描画装置?(Automatic Transport Electron Beam Lithography System) |
| 装置スペック | 【特徴】 ZnO/W熱電解放射型電子銃の採用により、最小ビーム径1.5nmφの極細線用ビームを長時間安定して使用することができます。また最高150kVの加速電圧を採用し、最小線幅4nmの描画が可能です。 【仕様】 加速電圧：150kV 最小電子ビーム径：φ1.5nm 最小描画線幅：4nm ビーム電流可変域：5pA-100nA 描画フィールドサイズ：□100μm、□250μm、□500μm |
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