デバイス >
ナノインプリント装置?(Nanoimprint system)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 大阪大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | オブデュキャット |
| 型番 | Eitre 3 |
| 設備名称 | ナノインプリント装置?(Nanoimprint system) |
| 装置スペック | 【特徴】 UV（波長250～450nm）と熱（室温～200℃）を使って、最大3インチの微細パターンを転写可能。エア加圧（最大50bar)なので基板全面に均一に転写でき、異物によるモールドの破損が少ない。鋳型準備が必要だが同じパターンを複数作製したいユーザーに最適。 【仕様】 熱･UVの両方式に対応 試料サイズ：4 inch |
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