表面化学実験ステーション (Surface chemistry experimental apparatus)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 日本原子力研究開発機構 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | 加速器・放射光 > 放射光 |
| 製造元 | オミクロン (Omicron) |
| 型番 | Hipp-3 |
| 設備名称 | 表面化学実験ステーション (Surface chemistry experimental apparatus) |
| 装置スペック | "表面界面の電子状態の精密分析や時分割観察が可能 ・高輝度・高エネルギー分解能高輝度軟X線放射光(400～1700eV) ・複合表面分析（LEED、Arスパッター、SPM、蒸着（実績：Hf、Ge、Cs、Auなど） ・超高真空(2×10-8Pa)～ガス雰囲気(10-3Pa) 室温～1150℃加熱中の光電子分光観察 ・材料プロセスの時分割観察、超音速分子線を使った反応ダイナミクス ・測定試料：半導体（Si、Ge、SiC、GaN etc）、金属（Cu、Ni、各種合金）、グラフェン等の新材料、ナノ粒子、機能物質など。単結晶、多結晶、アモルファス、薄膜等の固体試料 ・導入ガス：酸素、水素、水、ギ酸、一酸化窒素、メタン、エタン、塩化メチル、NO2、COなど" |
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