デバイス >
超高精度電子ビーム描画装置
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 広島大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | エリオニクス?(Elionix) |
| 型番 | ELS-G100 |
| 設備名称 | 超高精度電子ビーム描画装置 |
| 装置スペック | 加速電圧：100kV，50kV, 25kV 電子ビームの最小スポットサイズ：ビーム電流1nAにおいて2.0nm以下 最小線幅：6nm |
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