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エッチング装置（ICP Poly-Siゲート用）?(Inductively coupled plasma etcher for poly-Si)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 広島大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | 株式会社ユーテック?(YOUTECUniversal Technics Co.,Ltd ) |
| 型番 | 12-228PH |
| 設備名称 | エッチング装置（ICP Poly-Siゲート用）?(Inductively coupled plasma etcher for poly-Si) |
| 装置スペック | Cl2, O2, N2, HBr使用可能 |
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