デバイス >
電子線描画装置 (Electron beam lithography system)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 香川大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | エリオニクス (Elionix) |
| 型番 | ELS-7500EX |
| 設備名称 | 電子線描画装置 (Electron beam lithography system) |
| 装置スペック | 加速電圧：50kV、30kV、20kV 描画可能な最小線幅10nm フィールドつなぎ精度50nm 以下 描画対象：6インチまで対応可能 所要時間：線幅1μm／2インチウエハ；5～6時間 線幅10nm／2インチウエハ；4日間 |
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