デバイス >
マスクレス露光装置 (Mask-less exposure system)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 香川大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | 大日本科研 (Jpn.Sci.Eng.) |
| 型番 | MX-1204 |
| 設備名称 | マスクレス露光装置 (Mask-less exposure system) |
| 装置スペック | DMDによるパターン生成露光、 光源:L (波長375±5nm) 描画方法:直接描画 描画対象:150mm角、 最小描画精度:最小線幅1μm程度、 アライメント精度±0.15μm |
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