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光干渉式膜厚測定装置
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 香川大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | シータメトリシス |
| 型番 | FR-Scanner-AIO-Mic-XY200 |
| 設備名称 | 光干渉式膜厚測定装置 |
| 装置スペック | 測定膜厚範囲（SiO2）：10nm ? 80μm（10X） 測定精度：0.2% or 2nm 測定波長範囲：380nm～1020nm 多層膜測定：4層まで可能 測定スポット径：10,25,50,100μm 光源：ハロゲンランプ サンプルサイズ：Max.200 x 200 mm 光学フィルター：Y-48、R-60 その他：自動マッピング |
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