デバイス >
小型2源RFスパッタ装置 Cryovac RSP-4-RF3x2
学内学外とも共用
| 設置機関 | 分子科学研究所 |
|---|---|
| 研究科・学部 | 装置開発室 |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | クライオバック |
| 型番 | RSP-4-RF3×2 |
| 設備名称 | 小型2源RFスパッタ装置 Cryovac RSP-4-RF3x2 |
| 装置スペック | 真空中で金属の薄膜を試料表面に形成する装置。2基のマグネトロンカソードを備え、積層膜の成膜が可能。スパッタガス（Ar）の他、反応性ガス（N2）が使用可能。逆スパッタ可能。 スパッタリング方式：マグネトロン,スパッタ電源：RF 最大300W ターゲット：Au、Nb、φ3インチ,基板ホルダー：φ120mm、600℃まで加熱可能 |
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