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表面分析 > EPMA

電界放出型電子プローブマイクロアナライザ
学内学外とも共用

設置機関 東北大学
研究科・学部 産学連携先端材料研究開発センター
設備分類 表面分析 > EPMA
製造元 日本電子
型番 JXA8530F
設備名称 電界放出型電子プローブマイクロアナライザ
装置スペック 電子像観察、定性分析、定量分析、元素分布観察、定量マッピング、相分析 ・ 加速電圧: 1~30kV、二次電子分解能:3nm、倍率:×40~×300,000 ・ 分析元素範囲: B~U 、X線分光範囲WDS: 0.087~9.3nm、EDSエネルギーレンジ: 20kV ・ 相分析プログラム: 波形分離、相分布、任意曲面マップ、粒子計測 【軟X線分光器 SXES日本電子(?)製SS-94000SXES について】 ・取得エネルギー範囲:50-200eVを含む範囲以上。 ・エネルギー分解能は、0.35eV 以下(Al-L 発光スペクトル@73eV 25%-75%高さでのエ ネルギー幅) ・不等間隔回折格子(2種類)であり、それぞれの回折格子毎の分光範囲を同時に計 測できること。 1.エネルギー領域50-160eV 入射角4.0°1200l/mm(Auレプリカ) 2.エネルギー領域80-200eV 入射角3.0°1200l/mm(AuレプリカNiコート) 軟X線分光器(オプション)により、これまで検出が困難であったLiなどの軽元素が検出できるようになると共に、EPMAのWDS機能との併用により、ワンストップでの組成解析が可能。軽元素の状態マッピングに威力を発揮する。
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