多機能走査型Ｘ線光電子分光分析装置
学内学外とも共用
| 設置機関 | 東北大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | 産学連携先端材料研究開発センター |
| 設備分類 | 表面分析 > XPS |
| 製造元 | アルバック･ファイ |
| 型番 | PHI-5000 VersaProbe II |
| 設備名称 | 多機能走査型Ｘ線光電子分光分析装置 |
| 装置スペック | ・ 走査型X線源によりビーム径は、10μm～200μm の間で設定可能。 ・ Scanning Xray Image のその場観察により、より正確、迅速な分析位置の決定が可能。 ・ 低エネルギー電子とイオン同時照射により、絶縁物試料の表面電位を均一にする帯電中和方法を採用。 ・ 測定視野内や試料台上の自動多点分析が可能。 ・ 最小ビーム径： 10μm以下 ・ 検出器： 16チャンネル ・ X線スキャン範囲： 1.4mm×1.4mm ・ イオン銃加速電圧： 0～5kV ・ 最高エネルギー分解能： 0.5eV以下 |
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