デバイス >
ECRロングスロースパッタ (ECR long-throw sputter)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 東北大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | エリオニクス (Elionix) |
| 型番 | EIS-200ERP-NPD-TK |
| 設備名称 | ECRロングスロースパッタ (ECR long-throw sputter) |
| 装置スペック | サンプルサイズ：小片～6インチ 基板温度：20℃ ターゲット：4インチ× 2 ターゲット‐ステージ間距離 ：350ｍｍ 到達真空度：3E-4Pa エッチング可 |
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