デバイス >
アネルバマルチスパッタ (Anelva multi-sputtering)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 東北大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | アネルバ (Anelva) |
| 型番 | SPC-350 |
| 設備名称 | アネルバマルチスパッタ (Anelva multi-sputtering) |
| 装置スペック | サンプルサイズ、同時処理枚数：4インチ×6枚 基板温度：室温～650℃ 電源：DC×2、RF×1（同時放電可能） ターゲット：6インチ×3（強磁性体対応） |
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