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酸素加圧RTA付高温スパッタ装置 (High-temp. sputtering and O2 annealing)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 東北大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | ユーテック (Youtec) |
| 型番 | 21-0604 |
| 設備名称 | 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置 (High-temp. sputtering and O2 annealing) |
| 装置スペック | サンプルサイズ：小片～8インチ 3チャンバ構成：金属用(DC)スパッタチャンバ、酸化物用(RF)スパッタチャンバ、酸素加圧アニールチャンバ 基板温度：最高700℃（ランプ加熱方式） |
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