デバイス >
ケミカルドライエッチャー(CDE) (Chemical Dry Etcher (CDE))
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 東北大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | 芝浦メカトロニクス (Shibaura Mechatronics) |
| 型番 | CDE7 |
| 設備名称 | ケミカルドライエッチャー(CDE) (Chemical Dry Etcher (CDE)) |
| 装置スペック | サンプルサイズ：小片～5インチ 基板固定方式：静置（温度制御不可） プラズマ方式：2.45GHzリモートプラズマ ガス：CF4、O2、N2 |
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