デュアルビーム加工観察装置 (Dual Beam system)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | 顕微鏡 > 試料加工装置 |
| 製造元 | 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Technologies) |
| 型番 | NB5000 |
| 設備名称 | デュアルビーム加工観察装置 (Dual Beam system) |
| 装置スペック | ・FIB：加速電圧1~40 kV、最大電流50nA、倍率x600~ ・SEM：加速電圧0.5~30kV、分解能1nm@15kV, 倍率x250~ ・付属：マイクロサンプリング、STEM, EDS |
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