デバイス >
レーザー描画装置 [DWL66+]
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | ハイデルベルグ・インストルメンツ (HEIDELBERG INSTRUMENT) |
| 型番 | DWL66+ |
| 設備名称 | レーザー描画装置 [DWL66+] |
| 装置スペック | ・光源：375nm 半導体レーザー (70mW) ・描画モード：ラスタースキャン描画、ベクターモード描画 ・解像モード：0.3μm, 0.6μm, 0.8μm, 1.0μm ・最大試料サイズ：8インチ角 ・その他：グレースケール描画、重ね合わせ描画 |
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