デバイス >
CCP-RIE装置 [RIE-200NL]
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | サムコ (samco) |
| 型番 | RIE-200NL |
| 設備名称 | CCP-RIE装置 [RIE-200NL] |
| 装置スペック | ・用途：多種材料のドライエッチング ・プラズマ励起方式：平行平板型 ・電源出力：最大300W ・プロセスガス：CHF3，CF4，SF6，Ar，O2，N2 ・試料ステージ温度：室温 ・最大試料サイズ：φ8inch |
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