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原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE]
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | オックスフォード・インストゥルメンツ (Oxford Instruments) |
| 型番 | PlasmaPro 100 Cobra 300 ALE |
| 設備名称 | 原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE] |
| 装置スペック | ・用途：GaN、GaAs、化合物半導体のドライエッチング ・プラズマ励起方式：誘導結合型 ・電源出力：ICP出力：最大3kW／バイアス出力：最大300W ・プロセスガス：Cl2，BCl3，SF6，Ar，N2，O2 ・試料ステージ温度：-30～+80度 ・最大試料サイズ：φ6インチ（オプションで8インチ可） ・その他：ICP エッチング加工, ALE プロセス, 終点検出機能装備 |
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