デバイス >
ICP-RIE装置 [CE300I]
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | アルバック |
| 型番 | CE300I |
| 設備名称 | ICP-RIE装置 [CE300I] |
| 装置スペック | ・エッチングガス：Ar、O2、SF6、Cl2、 BCl3、｛CF4、CHF3、C4F8のうち一つ｝ ・圧力：0.1～13.3 Pa ・ICP-RF：最大1kW ・バイアス-RF：最大300W ・基板寸法：最大152 mmφ |
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